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Chemical Concentration Meter


Testproduct LM de


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CMP POLI 610

CMP


CMP POLI 610


CMP-Anlage für harte und inerte Wafer, hoher Polierdruck, bis zu 2 Köpfe, bis zu 200mm Wafer...

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Post CMP Scrubber 412RL

CMP, Wet Processing


Post CMP Scrubber 412RL


Manuelle Beladung, Stand-alone automatisierter, 4-12 Zoll, doppelseitiger PVA-Scrubber

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Post CMP Scrubber 412S von GnP, Seitenansicht

CMP, Wet Processing


Post CMP Scrubber 412S


Manuelle Beladung, Stand-alone automatisierter, 4-12 Zoll, doppelseitiger PVA-Einzelkammer Scrubber

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Post CMP Scrubber 812L

CMP, Wet Processing


Post CMP Scrubber 812L


Kassette zu Kassette, Stand-alone, 8-12 Zoll, linear doppelseitiger PVA-Scrubber

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Axus Technologies Crystal Carrier Upgrade

CMP, CMP, Wet Processing


Crystal Carrier upgrade


Crystal Carrier upgrade ist für ultradünnes und zerbrechliches Wafer-Handling mit 4 Druckzonen konzipiert.

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CMP Remanufactured


Strasbaugh 6DSSP CMP


High Throughput automated Dry In Wet Out (DIWO) CMP tool for 100-200mm Wafers.

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